| Chemoselective deprotection of acid labile primary hydroxyl protecting groups under CBr4-photoirradiation conditions | |
|---|---|
| 學年 | 93 |
| 學期 | 1 |
| 出版（發表）日期 | 2004-12-06 |
| 作品名稱 | Chemoselective deprotection of acid labile primary hydroxyl protecting groups under CBr4-photoirradiation conditions |
| 作品名稱（其他語言） | |
| 著者 | 李世元; Lee, Adam Shih-yuan; Chen, M. Y.; Patkar, L. N.; Lu, K. C.; Lin, C. C. |
| 單位 | 淡江大學化學學系 |
| 出版者 | Elsevier |
| 著錄名稱、卷期、頁數 | Tetrahedron 60(50), pp.11465-11475 |
| 摘要 | The CBr4-photoirradiation in methanol generates a controlled source of HBr, which can chemoselectively deprotect commonly used hydroxyl-protecting groups in saccharides and nucleosides, such as tert-butyldimethylsilyl, isopropylidene, benzylidene and triphenyl ethers in the presence of other acid-labile functional groups. |
| 關鍵字 | CBr4-photoirradiation;Deprotection |
| 語言 | en |
| ISSN | 0040-4020 |
| 期刊性質 | 國內 |
| 收錄於 | |
| 產學合作 | |
| 通訊作者 | |
| 審稿制度 | 否 |
| 國別 | TWN |
| 公開徵稿 | |
| 出版型式 | ,電子版 |
| 相關連結 |
機構典藏連結 ( http://tkuir.lib.tku.edu.tw:8080/dspace/handle/987654321/24869 ) |
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